国产 CMP 抛光液及抛光垫发展近况
思瀚产业研究院    2026-03-11

1、安集科技为国内 CMP 抛光液龙头

安集科技是国内 CMP 抛光液行业的龙头。2024 年，公司 CMP 抛光液营收为 15.5 亿元，全球市占率已达到 10%左右；公司 CMP 抛光液占总营收的比重约为 84.2%。公司于 2004年成立，2008 年开发了首位客户中芯国际，首款产品进入量产；2018 年长江存储成为公司重要客户之一；先进封装领域，日月光、艾克尔、长电科技等均为公司客户。近年公司CMP 抛光液销量及均价都呈现增长趋势。

目前，安集科技的 CMP 抛光液已实现全品类覆盖，包括铜及铜阻挡层、钨、介电材料、氧化铈基、衬底抛光液等。

安集科技自研 CMP 抛光液磨料，但目前磨料的国产化用量与自研用量仍较低。公司与山东安特纳米材料有限公司成立合资公司，建立硅溶胶产线，目前合作开发的多款硅溶胶已应用于公司多款抛光液产品并实现量产销售，自产氧化铈磨料测试论证进展顺利，部分产品已实现量产销售。

产能方面，安集科技上海金桥生产基地以生产 CMP 抛光液为主，宁波北仑生产基地部分CMP 抛光液产线作为保障供应链，上海化工区以生产上游原材料为主。从产能的角度，公司上海金桥及宁波北仑基地的 CMP 抛光液产能（含在建）约为 6.0 万吨/年，上海化工区纳米磨料产能约为 500 吨/年。

2、鼎龙股份为国内 CMP 抛光垫龙头，横向布局 CMP 抛光液、清洗液产品

鼎龙股份于 2015 年 10 月投资设立鼎汇微电子，正式启动 CMP 抛光材料相关业务。公司以成熟产品 CMP 抛光垫为切入口，推动 CMP 抛光液、清洗液产品的横向布局。2025 年前三季度，公司 CMP 抛光垫、抛光液和清洗液营收共计 10.0 亿元，占公司总营收比重为37.0%。

鼎龙股份是国内 CMP 抛光垫供应龙头。公司实现了集成电路 CMP 抛光垫的全品类（氧化物、铜及铜阻挡层、钨、铝、浅槽隔离等）、全技术节点（28nm 及以上成熟制程、28nm以下先进制程）布局，并向软垫、大硅片抛光垫、碳化硅抛光垫等方向发展。公司深度渗透国内主流晶圆厂客户，成为了部分客户的第一供应商，同时持续在外资晶圆厂客户进行市场推广。2025 年前三季度，公司 CMP 抛光垫营业收入为 7.95 亿元，同比增长 52%。从产品结构来看，12 寸产品的出货占比超过 80%。从增长趋势来看，公司 CMP 抛光垫业务仅 2023 年由于下游部分客户产能较弱而出现下滑，其余年份营收均较快增长。

鼎汇微电子作为鼎龙股份生产 CMP 抛光垫的控股子公司，2021 年开始扭亏为盈，2023年鼎汇微电子净利润达到1.8亿元，净利润率为42.3%，占鼎龙股份净利润比重达44.6%；潜江软垫于 2024 年 8 月开始扭亏为盈，转入持续盈利模式。2021~2023 年，每片 CMP抛光垫的平均售价在 2,500~3,000 元之间，呈增长趋势。

鼎龙股份于 2018 年、2021 年分别启动 CMP 清洗液、抛光液业务。目前公司多线布局多晶硅、金属铜、金属铝、阻挡层、金属钨、介电层等系列近 40 种 CMP 抛光液产品，尤其在 28nm HKMG 抛光液、FinFET 钨栅极抛光液、存储用多晶硅/氮化硅抛光液等产品取得突破。公司铜制程 CMP 后清洗液在多家客户形成规模化销售，钨、氮化硅、铝制程等CMP 清洗液取得一定销售收入。2025 年前三季度，公司 CMP 抛光液及清洗液营业收入为 2.03 亿元，同比增长 45%。2023 年，鼎泽新材料亏损 0.12 亿元，未披露 2024 年及之后盈利情况。

产能角度，鼎龙股份已完成武汉本部、潜江产业园、仙桃产业园三大园区布局。公司预计2026 年第一季度末武汉本部抛光硬垫月产能将提升至 5 万片左右（即年产约 60 万片），潜江 CMP 软垫及配套缓冲垫产能约为 20 万片/年，抛光液及研磨粒子产能约 2.5 万吨（其中武汉本部产能 0.5 万吨、仙桃抛光液及研磨粒子产能共 2 万吨），清洗液产能约 1.2 万吨（其中武汉本部产能约 0.2 万吨、仙桃产能约 1 万吨）。

为保证供应链安全，鼎龙股份自抛光液业务开始之初就确立了核心纳米研磨粒子自研自产与抛光液配方并行推进的策略。目前公司 CMP 抛光垫已实现预聚体、微球与缓冲垫 3 大核心原材料全面自产，CMP 抛光液产品 2022 年已实现超纯硅/高纯硅、氧化铝、氧化铈4 大类主流纳米研磨粒子的产业化。

3、 其他国内公司也在研发 CMP 抛光液、抛光垫、清洗液等产品

上海新阳在 CMP 抛光液与清洗液领域亦有产品。2022 年 2 月，公司全资收购关联合作方上海晖研 100%股权，进军化学机械抛光行业。目前，公司成熟的浅槽隔离、金属钨、金属铜、硅氧化层、多晶硅抛光液等系列产品，可覆盖 14nm 及以上技术节点；其中钨抛光液具备大规模量产的产品性能，先进制程的多晶硅抛光液产品已进入国内主流晶圆公司产线。

超纯 CMP 抛光液产能方面，上海新阳在合肥新阳厂区规划产能为 0.7 万吨/年，松江本部规划产能为 0.5 万吨/年。此外公司也在研发 3D NAND 抛光后清洗液。彤程新材在 CMP 抛光垫领域进行布局。

2024 年 5月公司全资子公司在江苏常州投资建设 CMP 抛光垫，产能为 25 万片/年，预计满产后年销售额约 8 亿元。至 2025 年 9 月末，公司常州工厂的建设及相关产品认证流程已完成，并成功从国内主要的 8 寸及 12 寸晶圆代工厂获得抛光垫订单，开始生产及交付。其他上海新安纳在铜、硅片抛光液，昂士特科技在多晶硅、介质层、浅槽隔离、钨抛光液领域有所布局。麦丰新材料在抛光垫、氧化铝/氧化铈/氧化硅抛光液等产品均有布局。

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